等離子清洗機(jī)中常用的工藝氣體包括氧氣、氬氣、氮氣、壓縮空氣、氫氣、四氟化碳等。它利用氣體電離產(chǎn)生的等離子體對工件表面進(jìn)行處理。不同的工藝氣體會被用來達(dá)到最佳的處理效果，那么等離子清洗機(jī)中常用的工藝氣體如何選擇呢？

　　氧氣是等離子清洗常用的活性氣體，屬于物理+化學(xué)處理方式。電離后產(chǎn)生的離子可以物理轟擊表面，形成粗糙的表面。同時，高活性氧離子可以與斷裂的分子鏈發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成活性基團(tuán)的親水表面，從而達(dá)到表面活化的目的。

　　有機(jī)污染物的元素在斷鍵后會與高活性氧離子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成一氧化碳、二氧化碳、H2O等分子結(jié)構(gòu)。從表面分離，從而達(dá)到表面清潔的目的。

　　氧主要用于高分子材料的表面活化和有機(jī)污染物的去除，但不適合易氧化的金屬表面。真空等離子體中的氧等離子體為淺藍(lán)色，在局部放電條件下類似白色。放電環(huán)境光線明亮，肉眼觀察真空室可能沒有放電。

　　產(chǎn)品結(jié)構(gòu)

　　真空等離子體表面處理系統(tǒng)主要包括三個部分：真空腔及真空系統(tǒng)，等離子體發(fā)生器，控制系統(tǒng)。

　　（A）真空腔及真空發(fā)生系統(tǒng)

　　真空腔固定于機(jī)柜框架內(nèi)，左右兩側(cè)為可拆門，因此內(nèi)部的真空腔及真空系統(tǒng)的維修是極方便的。真空發(fā)生系統(tǒng)由波紋管、KF接頭、真空泵以及油霧過濾器組成，核心部件真空泵（真空泵組）。

　　（B）等離子體發(fā)生器

　　等離子體發(fā)生器在20Pa-100Pa間給電極板施加電壓，產(chǎn)生低溫等離子體。利用高頻轉(zhuǎn)換技術(shù)形成高頻電壓加到電極板上，當(dāng)真空腔內(nèi)達(dá)到一定真空度時，產(chǎn)生等離子體放電現(xiàn)象，放電后電路會自動調(diào)節(jié)電壓到適當(dāng)值，保證電路正常穩(wěn)定放電。

　　（C）控制系統(tǒng)

　　本系統(tǒng)使用MCGS觸摸屏、西門子PLC、中文界面。設(shè)備的工藝流程控制：真空泵啟動->擋板閥開啟->達(dá)到設(shè)定的真空度->通入工藝氣體->RF放電->工作時間到破真空->工作完成。設(shè)備分自動和手動兩種方式。